- 高盛维持中微公司(AMEC)"买入"评级,12个月目标价582元人民币(潜在涨幅82.7%)。核心观点:(1) 中国存储与先进逻辑客户半导体设备需求强劲,国

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高盛维持中微公司(AMEC,688012.SS)(基于2030E P/E 54x折现至2027E,COE假设11%),较当前价318.55元有约**82.7%**的潜在上行空间。 报告核心观点如下: :中国存储与先进逻辑客户的半导体设备需求强劲,叠加国产替代率提升以及公司从刻蚀向沉积等邻近品类的产品扩张,AMEC前景乐观。 :公司发布6款新设备,覆盖极高高深宽比刻蚀(Primo XD-RIE)、介质膜沉积(QuaStar ON/GE PECVD)、钼ALD(Unicore AM)、集成金属薄膜沉积(Uniflash)以及SiC外延(PDS8)。 :预计3Q26E/4Q26E收入分别环比增长28%/31%,达48.19亿/63.06亿元人民币。 :高盛预计中国WFE支出2026-28E分别同比增长13%/20%/15%,到2028E达610亿美元。 :上调2026-28E收入预测4.8%/7.8%/10.3%,但因新产品爬坡及竞争压力下调毛利率预测1.6/1.3/0.8个百分点。

一、行业层面:中国WFE持续高景气 高盛在《CHIPS IV》报告中指出: 中国WFE支出2026E/27E/28E分别同比增长 2028E中国WFE规模预计达 AMEC作为领先半导体设备供应商将充分受益 二、公司层面:新产品组合拓宽工艺覆盖

  1. 高深宽比刻蚀——先进存储需求强劲 极高高深宽比刻蚀机特性: 支持的极高高深宽比刻蚀 配备大功率多级脉冲RF系统 可调DC偏压、低温刻蚀 优化的等离子体分布与边缘控制 随着3D NAND层数增加(向更高层数迁移),DRAM结构愈加复杂,制造商需要在保持垂直轮廓、晶圆均匀性和关键尺寸稳定性的同时,刻蚀更深更窄的结构。这显著提升了工艺复杂度和刻蚀强度,利好AMEC的领先产品。
  2. 沉积工艺全面铺开——5款新品覆盖多场景 设备工艺应用场景关键参数

介质膜沉积 3D NAND 单系统处理16片晶圆

介质膜沉积 先进逻辑 单系统处理12片晶圆

钼ALD 高堆叠存储字线填充 12英寸

集成金属薄膜沉积 集成原位预清洗+Ti/TiN沉积 单平台

SiC外延 功率半导体 8英寸 这些产品的战略意义在于: 将AMEC工艺覆盖从扩展到 覆盖存储、逻辑、功率三大应用 显著提升单客户、单产线的设备内容价值 三、盈利预测调整 指标2026E(旧→新)2027E(旧→新)2028E(旧→新) 收入(百万元) 17,003→17,817(+4.8%) 23,100→24,899(+7.8%) 29,723→32,784(+10.3%) 毛利率 41.8%→40.2%(-1.6ppts) 43.9%→42.6%(-1.3ppts) 44.8%→44.0%(-0.8ppts) 营业利润率 19.1%→17.2%(-1.9ppts) 27.1%→24.2%(-2.8ppts) 30.5%→28.5%(-2.0ppts) 净利润(百万元) 5,251→5,088(-3.1%) 6,062→5,872(-3.1%) 8,342→8,579(+2.8%) 调整逻辑: :出货量加速增长,特别是新产品推动 :新产品爬坡初期毛利率较低,以及竞争压力 :新产品扩张和销售投入带来更高运营费用,2026/27E下调约3%,2028E上调2.8%(规模效应显现) 四、季度展望 季度收入(百万元)环比毛利率 1Q26 2,915 -33% 39.9% 2Q26 3,776 +30% 39.6%

目标价推导 :(基于2030E P/E) 推导方法:全球同业P/E与"NI YoY + OPM"的相关性分析 AMEC对应的2031E OPM 30% + NI YoY 30%,比值为0.9,与同业均值0.9一致 对比此前目标P/E为(下调) :以11% COE折现回2027E :(前值577元) 当前估值水平 当前股价:318.55元(截至2026年9月30日) 市值:2,938亿元人民币 / 438亿美元 12个月潜在涨幅: 隐含P/E(目标价对应):2027E约95x,2028E约65x 评级:

主要下行风险: :当前贸易限制并未专门针对成熟制程晶圆厂,若未来限制扩展至成熟制程,将进一步压制AMEC产品的需求。 :AMEC的刻蚀机可用于海外5nm生产线(即先进制程),若公司供应此类产品的能力受到限制,将带来额外下行风险。 :中国主要代工厂资本开支若弱于预期,将影响AMEC订单及收入增长。 其他关注点: 新产品毛利率爬坡速度低于预期 行业竞争加剧导致价格压力 国产替代率提升节奏不及预期 中美科技博弈政策变化

总体总结

主题正文

  1. 核心观点:(1) 中国存储与先进逻辑客户半导体设备需求强劲,国产化率持续提升,公司从刻蚀向沉积及邻近设备品类扩张;
  2. (2) 预计3Q26E/4Q26E收入环比增长28%/31%至48.19亿/63.06亿元,2026-28E中国WFE支出将分别增长13%/20%/15%;
  3. (4) 上调2026-28E收入预测4.8%/7.8%/10.3%,但因新产品爬坡及竞争压力下调毛利率预测1.6/1.3/0.8个百分点,2026-28E净利润调整-3.1%/-3.1%/+2.8%;
  4. 高盛维持中微公司(AMEC,688012.SS)(基于2030E P/E 54x折现至2027E,COE假设11%),较当前价318.55元有约**82.7%**的潜在上行空间。
  5. :公司发布6款新设备,覆盖极高高深宽比刻蚀(Primo XD-RIE)、介质膜沉积(QuaStar ON/GE PECVD)、钼ALD(Unicore AM)、集成金属薄膜沉积(Uniflash)以及SiC外延(PDS8)。
  6. :预计3Q26E/4Q26E收入分别环比增长28%/31%,达48.19亿/63.06亿元人民币。
  7. :高盛预计中国WFE支出2026-28E分别同比增长13%/20%/15%,到2028E达610亿美元。
  8. :中国主要代工厂资本开支若弱于预期,将影响AMEC订单及收入增长。