斗山在材料配方中引入了一种低热膨胀系数(CTE)的有机填充材料,将存储器封装CCL绝缘层厚度减薄至13um

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斗山在材料配方中引入了一种低热膨胀系数(CTE)的有机填充材料,将存储器封装CCL绝缘层厚度减薄至13um

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  1. 斗山在材料配方中引入了一种低热膨胀系数(CTE)的有机填充材料,将存储器封装CCL绝缘层厚度减薄至13um