【三菱化学与日本制钢所计划扩产氮化镓 产能扩充幅度50%】 三菱化学和日本制钢所(JSW)计划,到2027年扩充用于下一代功率半导体衬底的氮化镓(GaN)产能,
- 序号:191
- 星球链接:打开网页
- 附件:图片 0,音频 0,文档 0
- 音频文件:无音频
图片
无图片
正文
【三菱化学与日本制钢所计划扩产氮化镓 产能扩充幅度50%】 三菱化学和日本制钢所(JSW)计划,到2027年扩充用于下一代功率半导体衬底的氮化镓(GaN)产能,较2026年提高50%。据悉,三菱化学正与JSW合作研发功率半导体用GaN衬底,目前三菱化学/JSW 4英寸衬底仍处于客户验证阶段。随着需求增加,双方决定进一步扩增产能,且目标在2026年度开始提供6英寸、2028年度提供8英寸衬底样品。 (科创版日报-聚合724.guzhang.com)
总体总结
主题正文
- 【三菱化学与日本制钢所计划扩产氮化镓 产能扩充幅度50%】
- 三菱化学和日本制钢所(JSW)计划,到2027年扩充用于下一代功率半导体衬底的氮化镓(GaN)产能,较2026年提高50%。
- 据悉,三菱化学正与JSW合作研发功率半导体用GaN衬底,目前三菱化学/JSW 4英寸衬底仍处于客户验证阶段。
- 随着需求增加,双方决定进一步扩增产能,且目标在2026年度开始提供6英寸、2028年度提供8英寸衬底样品。
- (科创版日报-聚合724.guzhang.com)