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title: "【三菱化学与日本制钢所计划扩产氮化镓 产能扩充幅度50%】 三菱化学和日本制钢所（JSW）计划，到2027年扩充用于下一代功率半导体衬底的氮化镓（GaN）产能，"
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# 【三菱化学与日本制钢所计划扩产氮化镓 产能扩充幅度50%】 三菱化学和日本制钢所（JSW）计划，到2027年扩充用于下一代功率半导体衬底的氮化镓（GaN）产能，

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## 正文

【三菱化学与日本制钢所计划扩产氮化镓 产能扩充幅度50%】
三菱化学和日本制钢所（JSW）计划，到2027年扩充用于下一代功率半导体衬底的氮化镓（GaN）产能，较2026年提高50%。据悉，三菱化学正与JSW合作研发功率半导体用GaN衬底，目前三菱化学/JSW 4英寸衬底仍处于客户验证阶段。随着需求增加，双方决定进一步扩增产能，且目标在2026年度开始提供6英寸、2028年度提供8英寸衬底样品。
(科创版日报-聚合724.guzhang.com)

## 总体总结

主题正文
1. 【三菱化学与日本制钢所计划扩产氮化镓 产能扩充幅度50%】
2. 三菱化学和日本制钢所（JSW）计划，到2027年扩充用于下一代功率半导体衬底的氮化镓（GaN）产能，较2026年提高50%。
3. 据悉，三菱化学正与JSW合作研发功率半导体用GaN衬底，目前三菱化学/JSW 4英寸衬底仍处于客户验证阶段。
4. 随着需求增加，双方决定进一步扩增产能，且目标在2026年度开始提供6英寸、2028年度提供8英寸衬底样品。
5. (科创版日报-聚合724.guzhang.com)