🔥日本断供光掩膜版(Mask) 时间进展推演影响 🔥一个月: 1、新产品不能导入。 2、 产品升级无法流片(Tape-out)。 3、Mask损坏无法补做。 4
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🔥日本断供光掩膜版(Mask) 时间进展推演影响
🔥一个月: 1、新产品不能导入。 2、 产品升级无法流片(Tape-out)。 3、Mask损坏无法补做。 4、良率下降后无法重新制作优化版Mask。 5、研发几乎停滞。
🔥半年:影响会非常严重。 1、新芯片无法生产。 2、老Mask老化无法替换。 3、新工艺无法开发。 4、整个先进制造能力逐渐下降。 5、最终可能导致部分产品停产。
为什么Mask断供比很多材料更危险?
因为它具有几个特点:
- 制造周期长
- 制造门槛极高
- 供应商非常少
- 无法轻易替代
一个成熟工艺(90nm、65nm)可能需要20~40张Mask。 先进工艺(7nm、5nm、3nm)可能需要60~90张甚至100多张Mask,因为采用多重曝光和复杂工艺。
中国四大掩膜版:路维、龙图、清溢、冠石(唯一28量产)
掩膜版原材料:聚和材料(SK供应商 国产供应商)
总体总结
主题正文
- 🔥日本断供光掩膜版(Mask) 时间进展推演影响
- 2、 产品升级无法流片(Tape-out)。
- 4、良率下降后无法重新制作优化版Mask。
- 🔥半年:影响会非常严重。
- 4、整个先进制造能力逐渐下降。
- 一个成熟工艺(90nm、65nm)可能需要20~40张Mask。
- 先进工艺(7nm、5nm、3nm)可能需要60~90张甚至100多张Mask,因为采用多重曝光和复杂工艺。
- 中国四大掩膜版:路维、龙图、清溢、冠石(唯一28量产)