🔥日本断供光掩膜版(Mask) 时间进展推演影响 🔥一个月: 1、新产品不能导入。 2、 产品升级无法流片(Tape-out)。 3、Mask损坏无法补做。 4

图片

无图片

正文

🔥日本断供光掩膜版(Mask) 时间进展推演影响

🔥一个月: 1、新产品不能导入。 2、 产品升级无法流片(Tape-out)。 3、Mask损坏无法补做。 4、良率下降后无法重新制作优化版Mask。 5、研发几乎停滞。

🔥半年:影响会非常严重。 1、新芯片无法生产。 2、老Mask老化无法替换。 3、新工艺无法开发。 4、整个先进制造能力逐渐下降。 5、最终可能导致部分产品停产。

为什么Mask断供比很多材料更危险?

因为它具有几个特点:

  1. 制造周期长
  2. 制造门槛极高
  3. 供应商非常少
  4. 无法轻易替代

一个成熟工艺(90nm、65nm)可能需要20~40张Mask。 先进工艺(7nm、5nm、3nm)可能需要60~90张甚至100多张Mask,因为采用多重曝光和复杂工艺。

中国四大掩膜版:路维、龙图、清溢、冠石(唯一28量产)

掩膜版原材料:聚和材料(SK供应商 国产供应商)

总体总结

主题正文

  1. 🔥日本断供光掩膜版(Mask) 时间进展推演影响
  2. 2、 产品升级无法流片(Tape-out)。
  3. 4、良率下降后无法重新制作优化版Mask。
  4. 🔥半年:影响会非常严重。
  5. 4、整个先进制造能力逐渐下降。
  6. 一个成熟工艺(90nm、65nm)可能需要20~40张Mask。
  7. 先进工艺(7nm、5nm、3nm)可能需要60~90张甚至100多张Mask,因为采用多重曝光和复杂工艺。
  8. 中国四大掩膜版:路维、龙图、清溢、冠石(唯一28量产)