---
title: "🔥日本断供光掩膜版（Mask） 时间进展推演影响 🔥一个月： 1、新产品不能导入。 2、 产品升级无法流片（Tape-out）。 3、Mask损坏无法补做。 4"
topic_id: 45544244841424818
created_at: 2026-07-03T13:54:54.246+0800
source: zsxq
type: topic
cssclasses: zsxq-vault
---

# 🔥日本断供光掩膜版（Mask） 时间进展推演影响 🔥一个月： 1、新产品不能导入。 2、 产品升级无法流片（Tape-out）。 3、Mask损坏无法补做。 4

- 序号：140
- 星球链接：[打开网页](https://wx.zsxq.com/group/15522451881222/topic/45544244841424818)
- 附件：图片 0，音频 0，文档 0
- 音频文件：_无音频_

## 图片

_无图片_

## 正文

🔥日本断供光掩膜版（Mask） 时间进展推演影响

🔥一个月：
1、新产品不能导入。
2、 产品升级无法流片（Tape-out）。
3、Mask损坏无法补做。
4、良率下降后无法重新制作优化版Mask。
5、研发几乎停滞。

🔥半年：影响会非常严重。
1、新芯片无法生产。
2、老Mask老化无法替换。
3、新工艺无法开发。
4、整个先进制造能力逐渐下降。
5、最终可能导致部分产品停产。

为什么Mask断供比很多材料更危险？

因为它具有几个特点：
1. 制造周期长
2. 制造门槛极高
3. 供应商非常少
4. 无法轻易替代

一个成熟工艺（90nm、65nm）可能需要20~40张Mask。
先进工艺（7nm、5nm、3nm）可能需要60~90张甚至100多张Mask，因为采用多重曝光和复杂工艺。

中国四大掩膜版：路维、龙图、清溢、冠石（唯一28量产）

掩膜版原材料：聚和材料（SK供应商 国产供应商）

## 总体总结

主题正文
1. 🔥日本断供光掩膜版（Mask） 时间进展推演影响
2. 2、 产品升级无法流片（Tape-out）。
3. 4、良率下降后无法重新制作优化版Mask。
4. 🔥半年：影响会非常严重。
5. 4、整个先进制造能力逐渐下降。
6. 一个成熟工艺（90nm、65nm）可能需要20~40张Mask。
7. 先进工艺（7nm、5nm、3nm）可能需要60~90张甚至100多张Mask，因为采用多重曝光和复杂工艺。
8. 中国四大掩膜版：路维、龙图、清溢、冠石（唯一28量产）