米莱芯程(联合化学参股37.28%)——民营国产光刻机首台下线 调研概况 米莱概况：公司为唯一民营DUV整机厂商，布局整机包括i-line、KrF、ArF、以及
- 序号：076
- 星球链接：打开网页
- 附件：图片 0，音频 0，文档 0
- 音频文件：无音频
图片
无图片
正文
米莱芯程(联合化学参股37.28%)——民营国产光刻机首台下线 调研概况 米莱概况：公司为唯一民营DUV整机厂商，布局整机包括i-line、KrF、ArF、以及ArFi浸没式机型；当下已经完成首台i-line偏低端的机型，主要用于特色工艺、3D封装等领域；公司采取从中低端向中高端逐步演进的策略；公司现有员工近400人，其中超50人来自上海微，研发人员占比超80%，核心研发人员拥有超10年DUV光刻机研发经验，参与过02专项国家课题交付，其中核心负责人高博士拥有8年ASML工作经验，先后参与DUV浸没式光刻、EUV设备迭代，回国后曾任02专项28纳米浸没式节点技术总监、系统集成部负责人。
主营业务1：光刻机整机 整机五大分系统16个子系统全部自主研发，无外部外包环节，可实现定制化开发、稳定维保、成本管控。 （1）I-line机型：2026年底交付首台i线阿尔法样机，2027年完成产线验证，2028年启动量产；i线最小CD达280nm（市面主流最高水平），套刻精度对标佳能，单机精度25nm、匹配精度20nm，产率达240WPH。 （2）KrF机型：2027年底交付KrF阿尔法样机，2029年实现量产；KrF镜头计划2026年四季度完成。 （3）ArF/ArFi机型：2029年完成ArF dry阿尔法样机交付，后续结合二期政府投资规划推进浸没式机型研发，预计2032年左右推进相关量产（注：这里ArF/ArFi机型的研发进度具有不确定性，不是因为研发设计能力不足，而是因为公司在核心元器件供应链不在优先供应体系）。
主营业务2：光学系统 公司是目前市场上唯一可对外交付前道曝光系统的民营厂商，该领域处于相对垄断地位；产品定价为进口设备的80%，同时可提供定制化匹配、快速维保响应。 光学加工采用委外模式，深度绑定上游供应链：镜片加工、镀膜等环节全部委外，公司负责提出设计指标、材料要求、加工方案，不投入重资产加工产线；镀膜设备目前以进口为主，由供应商牵头推进国产替代验证。
样机参观 产能：现有厂房可以满足约10-15台i-line和10-12台KrF；i线单台定价约3300万，KrF单台定价约8000万，对应总产值不到20亿；ArF及后续机型产能纳入二期投资规划，暂未明确；目前正与地方政府洽谈，未来产能跟根据具体进展动态调整。
物镜测试台(配套光刻机)：主要用于光刻前系统地检查，其难度系数很高，精度比配套光刻机还要高，设备复杂度相当于0.6个光刻机整机，一台物镜测试台可配套几台光刻机； 现场一台i-line物镜测试台已经完成；KrF物镜测试台已经安装了约60%-70%；
验证进展：目前1台i线样机可用于产线验证，已有明确验证客户，同时多家晶圆厂主动提出验证需求，当前瓶颈为样机交付能力；2027年全年用于产线验证，预计验证周期约半年，2027年年中可获得测试结果。
总体总结
主题正文
- 公司现有员工近400人，其中超50人来自上海微，研发人员占比超80%，核心研发人员拥有超10年DUV光刻机研发经验，参与过02专项国家课题交付，其中核心负责人高博士拥有8年ASML工作经验，先后参与DUV浸没式光刻、EUV设备迭代，回国后曾任02专项28纳米浸没式节点技术总监、系统集成部负责人。
- （1）I-line机型：2026年底交付首台i线阿尔法样机，2027年完成产线验证，2028年启动量产；
- i线最小CD达280nm（市面主流最高水平），套刻精度对标佳能，单机精度25nm、匹配精度20nm，产率达240WPH。
- （3）ArF/ArFi机型：2029年完成ArF dry阿尔法样机交付，后续结合二期政府投资规划推进浸没式机型研发，预计2032年左右推进相关量产（注：这里ArF/ArFi机型的研发进度具有不确定性，不是因为研发设计能力不足，而是因为公司在核心元器件供应链不在优先供应体系）。
- 光学加工采用委外模式，深度绑定上游供应链：镜片加工、镀膜等环节全部委外，公司负责提出设计指标、材料要求、加工方案，不投入重资产加工产线；
- 物镜测试台(配套光刻机)：主要用于光刻前系统地检查，其难度系数很高，精度比配套光刻机还要高，设备复杂度相当于0.6个光刻机整机，一台物镜测试台可配套几台光刻机；
- 验证进展：目前1台i线样机可用于产线验证，已有明确验证客户，同时多家晶圆厂主动提出验证需求，当前瓶颈为样机交付能力；
- 2027年全年用于产线验证，预计验证周期约半年，2027年年中可获得测试结果。