- J.P. Morgan维持对ASML的"超配"评级，目标价€2,100（ADR $2,400），基于2028年EPS的29.6倍。公司管理层在调研中传递以下
- 序号：082
- 星球链接：打开网页
- 附件：图片 0，音频 0，文档 0
- 音频文件：无音频
图片
无图片
正文
- J.P. Morgan维持对ASML的"超配"评级，目标价€2,100（ADR $2,400），基于2028年EPS的29.6倍。公司管理层在调研中传递以下核心信息：(1) 定价方面，Immersion DUV和Low NA EUV将涨价，大部分影响将在2028年体现，对毛利率有直接增厚作用；(2) 产能方面，新园区将用于DUV/DUV Immersion模块与系统量产，2029年开始批量生产，公司正在评估2028年能否交付超过110台EUV设备，并致力于平滑周期波动；(3) 需求方面，订单极其强劲且无市场迟疑，大部分订单集中在2028年交付，2027年将有大量晶圆厂上线，Intel将成为重要客户，Terafab等新客户崛起，从2nm到A10节点光刻强度持续提升；(4) DRAM端美光有望从2027年起成为EUV主要买家；(5) 技术路线方面，3800F（600W激光功率）将于2027年出货、2028年放量，吞吐量提升至260wph，本十年末达800W/300wph，无需采用FEL技术；(6) 中国市场2026年以逻辑端为主，2027年DRAM将明显走强，目前尚未见到中国本土光刻机竞争。
J.P. Morgan维持对（ADR对应**$2,400**），基于2028年EPS的估值倍数（ADR端为29.4倍）。该目标倍数处于ASML过去五年28-38倍交易区间的下沿，反映出目标价主要受盈利驱动而非估值驱动，并隐含当前正处于上行周期。 报告基于2026年9月11日JPM分析师与ASML CFO 及投资者关系总监在Veldhoven总部的实地调研，重点围绕定价、产能、需求、中国市场及技术路线展开。
一、定价策略：2028年起对毛利率构成显著增厚 管理层在Q2电话会议上已暗示涨价，本次确认： ：集中在和两大产品线。 ：涨价的大部分影响要到才能在损益表（P&L）中体现。 ：涨价直接利好毛利；同时，因高产能利用率、更多设备出货带动利用率维持高位，也对毛利构成直接增厚。 ：Low NA EUV和Immersion DUV将成为公司中期毛利的。 二、产能布局：平滑周期波动，2029年新园区投产 ：用于生产，开始量产。 ：管理层正在评估2028年能否交付，但尚未正式宣布。缩短EUV制造周期是产能扩张的关键。 ：公司，减少波峰与波谷——若需求强劲，会选择而非快速冲高后回落，确保周期的可持续性。 ：新园区为DUV端提供了"自由度"，使EUV端更专注于高端产品和高利润组合。 三、需求侧：极其强劲，多重增长引擎共振 管理层用""形容当前需求，并明确表示。 ： 当前订单大部分集中在交付。 将迎来。 ： 领域关键趋势
光刻强度从2nm到A10节点持续提升（虽非线性）；；新客户如正在崛起
仍是主要驱动；，EUV使用增多，制程寿命延长
预计从
自2028年起将逐步替代多重曝光的Low NA EUV，并在未来十年持续放量 ：在逻辑和DRAM工艺中的使用都将进一步强化，意味着Immersion DUV将**"更长时间保持强势"。 四、中国市场：2027年DRAM将走强，关注政策风险 ：中国区销售以为主。 ：ASML预期。 ：ASML表示，但认为若美国《》显著增加中国竞争的风险**。 五、技术路线：激光功率持续提升，无需FEL 时间节点工具型号激光功率吞吐量 当前 3800E 500W 230 wph 2027年（少数出货） 3800F 600W 260 wph 2028年（放量） 3800F 600W 260 wph 本十年末 —
下个十年初 —
— 3800F工具的ASP与吞吐量呈。 由于激光功率持续大幅提升，ASML认为（自由电子激光，一种竞争性光源技术）。 关键技术驱动：将持续推进光刻强度提升。
评级与目标价 ： ： ASML.AS：（截至2028年6月） ASML ADR：（截至2028年6月） ：2028年EPS的（ADR为29.4倍） 估值逻辑 ASML过去5年远期市盈率（Forward P/E）的，。 JPM的目标倍数，意味着： ； 已计入的溢价假设。 投资逻辑总结 ASML是，在光刻领域市占率超过。 从2027年开始放量将提升光刻强度。 将成为新一轮增长动力。 ASML覆盖所有主要存储厂商，将。 近期，行业环境已显著改善。
以下因素可能使ASML无法达到目标价： ：针对中国等关键市场的出口限制可能扩大，影响中国区销售。 ：经济衰退将危及盈利预测和目标价。 ：若EUV在DRAM和逻辑端的采用速度低于预期，将拖累盈利。 ：利率上行将压制估值倍数，进而压低目标价。 ：《》若立法通过，可能加速中国本土光刻机厂商的追赶，对ASML构成长期竞争威胁。 ：若客户加速向FEL或其他替代光源迁移（虽目前ASML认为概率较低），可能影响EUV需求结构。 ：本次调研纪要传递的核心信号是——ASML的需求侧极其强劲、定价上行确定性强、产能布局有节奏地推进且管理层有意识地平滑周期。JPM基于2028年盈利（而非当前估值倍数）给予目标价，反映出对公司中期盈利能力大幅提升的信心。当前是存储+逻辑双轮驱动、High NA EUV即将放量、Immersion DUV持续强势的多重利好叠加阶段。
总体总结
主题正文
-
- J.P. Morgan维持对ASML的"超配"评级，目标价€2,100（ADR $2,400），基于2028年EPS的29.6倍。
- 公司管理层在调研中传递以下核心信息：(1) 定价方面，Immersion DUV和Low NA EUV将涨价，大部分影响将在2028年体现，对毛利率有直接增厚作用；
- (2) 产能方面，新园区将用于DUV/DUV Immersion模块与系统量产，2029年开始批量生产，公司正在评估2028年能否交付超过110台EUV设备，并致力于平滑周期波动；
- (3) 需求方面，订单极其强劲且无市场迟疑，大部分订单集中在2028年交付，2027年将有大量晶圆厂上线，Intel将成为重要客户，Terafab等新客户崛起，从2nm到A10节点光刻强度持续提升；
- (5) 技术路线方面，3800F（600W激光功率）将于2027年出货、2028年放量，吞吐量提升至260wph，本十年末达800W/300wph，无需采用FEL技术；
- 报告基于2026年9月11日JPM分析师与ASML CFO 及投资者关系总监在Veldhoven总部的实地调研，重点围绕定价、产能、需求、中国市场及技术路线展开。
- 四、中国市场：2027年DRAM将走强，关注政策风险
- ：本次调研纪要传递的核心信号是——ASML的需求侧极其强劲、定价上行确定性强、产能布局有节奏地推进且管理层有意识地平滑周期。