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韩国半导体最新 SK海力士，推进极紫外（EUV）工艺升级……开始引入新材料“相移掩膜版（PSM）”

聚和材料2025年并购SKE（SKC集团子公司）空白掩膜板，发力半导体材料。SKE主攻DUV领域的KrF/ArF PSM空白掩膜，具备14nm制程能力。SKE的掩膜产品已通过SK海力士的量产认证，是SK海力士的核心供应商之一。

目前公司空白掩膜板产能约1万片（韩国），下游客户扩产直接提升原有产能利用率；同时公司积极导入国内客户，若国产化导入顺利计划总产能扩产至6万片。

总体总结

主题正文

1. 韩国半导体最新 SK海力士，推进极紫外（EUV）工艺升级……开始引入新材料“相移掩膜版（PSM）”
2. 聚和材料2025年并购SKE（SKC集团子公司）空白掩膜板，发力半导体材料。
3. SKE主攻DUV领域的KrF/ArF PSM空白掩膜，具备14nm制程能力。
4. SKE的掩膜产品已通过SK海力士的量产认证，是SK海力士的核心供应商之一。
5. 目前公司空白掩膜板产能约1万片（韩国），下游客户扩产直接提升原有产能利用率；
6. 同时公司积极导入国内客户，若国产化导入顺利计划总产能扩产至6万片。