聚和材料联合韩国资本 KIP，出资 680 亿韩元（约 3.6 亿人民币）收购韩国 SK Enpulse 旗下空白掩模版（Blank Mask） 事业部，聚和持

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聚和材料联合韩国资本 KIP，出资 680 亿韩元（约 3.6 亿人民币）收购韩国 SK Enpulse 旗下空白掩模版（Blank Mask） 事业部，聚和持股超 95%： 标的出身：SK Enpulse 原本就是 SK 集团体系内企业，空白掩膜产线长期专供 SK 海力士，是海力士光刻环节核心耗材供应商，早已通过海力士全制程量产认证（ArF、KrF 光刻掩膜）。 收购直接打通海力士供应链：收购完成后，聚和直接继承原厂全部海力士订单、产线、认证资质，一跃成为 SK 海力士空白掩膜核心供应商，同时供货韩国龙仁厂区、中国无锡海力士工厂。 业务作用：空白掩膜是芯片光刻 “底片基材”，DRAM、HBM、NAND 制造刚需，海力士扩产 HBM、先进存储晶圆会持续拉动该耗材需求。

总体总结

主题正文

1. 聚和材料联合韩国资本 KIP，出资 680 亿韩元（约 3.6 亿人民币）收购韩国 SK Enpulse 旗下空白掩模版（Blank Mask） 事业部，聚和持股超 95%：
2. 标的出身：SK Enpulse 原本就是 SK 集团体系内企业，空白掩膜产线长期专供 SK 海力士，是海力士光刻环节核心耗材供应商，早已通过海力士全制程量产认证（ArF、KrF 光刻掩膜）。
3. 收购直接打通海力士供应链：收购完成后，聚和直接继承原厂全部海力士订单、产线、认证资质，一跃成为 SK 海力士空白掩膜核心供应商，同时供货韩国龙仁厂区、中国无锡海力士工厂。
4. 业务作用：空白掩膜是芯片光刻 “底片基材”，DRAM、HBM、NAND 制造刚需，海力士扩产 HBM、先进存储晶圆会持续拉动该耗材需求。