【英伟达与Marvell共振AI光互连，掘金CPO上游微纳制造稀缺标的——苏大维格】 ☀️6月2日Computex大会，Marvell CEO Matt Mur
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【英伟达与Marvell共振AI光互连，掘金CPO上游微纳制造稀缺标的——苏大维格】
☀️6月2日Computex大会，Marvell CEO Matt Murphy发表主题演讲，英伟达CEO黄仁勋亲自登台对谈，共同锚定AI数据中心光互连与CPO趋势。我们认为这是继算力、内存之后，AI基建主线的又一次系统性切换，光互连产业链迎来重估窗口。连接性成为AI基础设施新瓶颈：计算与内存瓶颈已逐步缓解，下一阶段系统性能将由连接架构定义。Marvell描绘"无距离数据中心"蓝图，通过全光互连实现计算+内存+网络资源池化。CPO(光电共封装)是突破物理限制的核心路径：光纤直连消除PCB走线，密度与功耗显著优化。这一趋势不仅利好光模块与封装环节，更向上游传导至光子器件制造与微纳加工设备这一稀缺卡位。
🌹 产业链映射与核心推荐： 光模块主线龙头业绩与订单确定性最强（旭创/新易盛/天孚/立讯/东山/德科立/光迅等），属第一梯队。
站在稀缺的视角，我们重点提示CPO上游微纳制造环节的 A股稀缺标的——苏大维格： 公司逻辑由实到虚三层共振。业绩端，子公司维普半导体光掩模缺陷检测设备已并表、进中芯国际供应链，2026 Q1带动归母净利同比+73%，扭亏拐点确立；设备端，激光直写光刻切入掩模、IC载板、先进封装，与维普形成"制造+检测"闭环；题材端，公司纳米压印与直写设备可批量制造光子器件、加工微纳光学结构，正是CPO、硅光、光互连器件的上游工艺支撑，直接卡位本轮光学量爆发的制造端。
☎️ 当Marvell在美股定价万亿光互连想象，A股映射需要兼具业绩实锤+CPO上游稀缺工艺的标的——苏大维格的组合属性
总体总结
主题正文
- ☀️6月2日Computex大会，Marvell CEO Matt Murphy发表主题演讲，英伟达CEO黄仁勋亲自登台对谈，共同锚定AI数据中心光互连与CPO趋势。
- 连接性成为AI基础设施新瓶颈：计算与内存瓶颈已逐步缓解，下一阶段系统性能将由连接架构定义。
- CPO(光电共封装)是突破物理限制的核心路径：光纤直连消除PCB走线，密度与功耗显著优化。
- 光模块主线龙头业绩与订单确定性最强（旭创/新易盛/天孚/立讯/东山/德科立/光迅等），属第一梯队。
- 站在稀缺的视角，我们重点提示CPO上游微纳制造环节的 A股稀缺标的——苏大维格：
- 业绩端，子公司维普半导体光掩模缺陷检测设备已并表、进中芯国际供应链，2026 Q1带动归母净利同比+73%，扭亏拐点确立；
- 题材端，公司纳米压印与直写设备可批量制造光子器件、加工微纳光学结构，正是CPO、硅光、光互连器件的上游工艺支撑，直接卡位本轮光学量爆发的制造端。
- ☎️ 当Marvell在美股定价万亿光互连想象，A股映射需要兼具业绩实锤+CPO上游稀缺工艺的标的——苏大维格的组合属性