【中微公司】Q1业绩高增，看好大扩产趋势下弹性表现！ 归母净利同增197% 【26Q1】营收29.15亿元，同比+34.13%，环比-32.56%；归母9.3亿
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【中微公司】Q1业绩高增，看好大扩产趋势下弹性表现！
归母净利同增197% 【26Q1】营收29.15亿元，同比+34.13%，环比-32.56%；归母9.3亿元，同比+197.2%，环比+3.36%；扣非4.78亿元，同比+60.09%，环比-27.97%；毛利率39.89%，同比-1.65pct，环比+0.6pct；归母净利率31.9%，同比+17.5pct，环比+11.08pct。公司归母增长较多，也与公司出售拓荆科技股票产生的税后净收益约4亿元有关。
设备覆盖度快速提升、打造平台型企业 ①刻蚀：CCP方面，90:1超高深宽比低温刻蚀设备已运付客户端验证；ICP 方面，第二代 ICP刻蚀设备在3D DRAM应用中取得了140:1的高深宽刻蚀结果，并付运到国内领先存储客户端认证，全新的化学气相刻蚀设备在 GAA 和 3D DRAM 关键工艺的实验室验证中展现优异性能。 ②薄膜沉积：成功开发出十多种薄膜设备，包括 LPCVD、ALD、EPI、PVD CuBS 和 PECVD 等产品。其中，公司已开发出金属栅应用的ALD产品；减压EPI设备已在成熟制程客户端验证成功，也已付运先进制程客户端，部分先进工艺已进入量产验证阶段；常压外延设备现已完成开发，进入晶圆验证阶段。
两存+先进逻辑大扩产趋势向上 ——国内两存、逻辑晶圆厂做大做强。两存将有望复制面板成长逻辑成为全球领先企业，晶圆厂体量持续壮大；先进制程必将大扩产，解决国产AI最卡脖子环节及众多高端应用芯片制造瓶颈。 ——据SEMI，2025年大陆晶圆制造设备市场空间约463亿美元，未来随着大扩产向上， 市场规模有望进一步增长，同时，国产化份额较低，仍有充分提升空间。
风险提示：技术迭代不及预期等；下游扩产不及预期。
总体总结
主题正文
- 【26Q1】营收29.15亿元，同比+34.13%，环比-32.56%；
- 归母净利率31.9%，同比+17.5pct，环比+11.08pct。
- 公司归母增长较多，也与公司出售拓荆科技股票产生的税后净收益约4亿元有关。
- ①刻蚀：CCP方面，90:1超高深宽比低温刻蚀设备已运付客户端验证；
- ICP 方面，第二代 ICP刻蚀设备在3D DRAM应用中取得了140:1的高深宽刻蚀结果，并付运到国内领先存储客户端认证，全新的化学气相刻蚀设备在 GAA 和 3D DRAM 关键工艺的实验室验证中展现优异性能。
- ②薄膜沉积：成功开发出十多种薄膜设备，包括 LPCVD、ALD、EPI、PVD CuBS 和 PECVD 等产品。
- 减压EPI设备已在成熟制程客户端验证成功，也已付运先进制程客户端，部分先进工艺已进入量产验证阶段；
- ——据SEMI，2025年大陆晶圆制造设备市场空间约463亿美元，未来随着大扩产向上， 市场规模有望进一步增长，同时，国产化份额较低，仍有充分提升空间。