载体铜箔(带载体可剥离超薄铜箔)是 mSAP(改良半加成法)工艺专用高端铜箔,由载体层(18/35μm 电解铜箔)+ 剥离层 + 超薄功能铜层(1.5–3μm)
- 序号:315
- 星球链接:打开网页
- 附件:图片 0,音频 0,文档 0
- 音频文件:无音频
图片
无图片
正文
载体铜箔(带载体可剥离超薄铜箔)是 mSAP(改良半加成法)工艺专用高端铜箔,由载体层(18/35μm 电解铜箔)+ 剥离层 + 超薄功能铜层(1.5–3μm)构成,压合后剥离载体,保留超薄铜层制作超细线路(线宽 / 线距≤10μm)。 核心应用:IC 封装载板(ABF/BT 载板)、高端 HDI、1.6T/3.2T 高速光模块 SLP 载板。 关键要求:厚度≤3μm、Rz≤1.5μm、剥离力稳定、高均匀性 / 结合力。
光华科技 SMAP载体铜箔——公司在封装基板的制造中,全面布局了相关的湿电子化学品,如mSAP化学镀铜、电镀铜、完成表面处理OSP、镍钯金以及棕化、褪膜等工艺技术及化学品;在先进封装上布局了RDL电镀铜、电镀锡等相关技术及化学品。
总体总结
主题正文
- 载体铜箔(带载体可剥离超薄铜箔)是 mSAP(改良半加成法)工艺专用高端铜箔,由载体层(18/35μm 电解铜箔)+ 剥离层 + 超薄功能铜层(1.5–3μm)构成,压合后剥离载体,保留超薄铜层制作超细线路(线宽 / 线距≤10μm)。
- 核心应用:IC 封装载板(ABF/BT 载板)、高端 HDI、1.6T/3.2T 高速光模块 SLP 载板。
- 关键要求:厚度≤3μm、Rz≤1.5μm、剥离力稳定、高均匀性 / 结合力。
- 光华科技 SMAP载体铜箔——公司在封装基板的制造中,全面布局了相关的湿电子化学品,如mSAP化学镀铜、电镀铜、完成表面处理OSP、镍钯金以及棕化、褪膜等工艺技术及化学品;
- 在先进封装上布局了RDL电镀铜、电镀锡等相关技术及化学品。