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- 报告核心观点认为，尽管台积电高管再次公开质疑ASML新一代High NA EUV光刻机的价格和必要性，但这不会对ASML的财务预期产生实质性影响。花旗预计High NA工具的大规模出货将从2028年开始，在此之前（2026/27年）出货量将保持低位（5-6台），主要用于研发。报告维持对ASML的买入评级，目标价1675欧元，看好其长期增长前景。
本报告的核心在于，。花旗认为，台积电的言论更多是向其客户传递“成本可控、技术路线稳定”的信号，而非针对ASML的技术或商业前景。，且其长期价值（通过减少工艺步骤来降低总体制造成本）已得到英特尔和三星的初步验证。因此，短期新闻面冲击不影响ASML的长期投资逻辑。
- 台积电传递的信息：对象是客户，而非ASML ：台积电业务发展副总裁Kevin Zhang在2026年技术研讨会上再次公开表示，至少在2029年之前的A14/13/12制程节点中“无需使用High NA”，其研发团队已能在不使用High NA的情况下实现技术演进。 ：这并非新鲜事，Zhang在2024、2025年的研讨会上已持类似谨慎态度。花旗认为，，避免客户因担心新技术导入导致芯片交付延迟或晶圆价格上涨而产生焦虑。这类似于当年Low NA EUV导入时的情景。
- High NA的技术价值：已获验证，重在“整体经济效益” ：报告明确指出，High NA技术本身是有效的，目前累计曝光晶圆已超过50万片，过去一年增长超10倍。问题不在于“能否不用”或“是否有效”，而在于。 ：High NA的核心优势在于。例如，英特尔报告称对某一层工艺，曝光次数从3次减至1次，工艺步骤从约40步减至不到10步。三星也报告在DRAM制造中某些层工艺步骤减少超80%。步骤减少意味着节省其他设备（沉积、刻蚀等）、晶圆厂空间和时间，从而可能降低总成本。 ：英特尔和三星对High NA态度更为积极，已开始在产品晶圆上测试该技术，而台积电目前仍聚焦于研发。
- 对ASML的实际影响：财务预期无实质变化 ：花旗的财务模型本就未假设High NA在2028年前会大规模出货。具体预测为：2026年5台、2027年6台（主要供研发）；2028-2030年逐步提升至13、17、22台。 ：即使有客户（如台积电）延迟采用High NA，他们也将需要采购更多台低NA EUV设备来满足先进制程需求。而ASML的低NA设备生产力（每小时处理晶圆数）和单价也在持续提升，这构成了对High NA收入潜在延迟的缓冲。
： ：（基于报告发布日收盘价1249.80欧元，潜在上涨空间约34%）。 ：采用 或 。该估值与花旗覆盖范围内其他高增长股票保持一致。 ：估值基于对ASML长期增长的信心，预计到2030年每股收益（EPS）的年复合增长率（CAGR）可达“十几到二十”（high-teen）。分析师认为，将估值展望延长至2026年以后，能更好地捕捉ASML在人工智能、半导体资本支出等结构性增长领域的长期潜力。
报告明确指出，若以下风险因素比预期更负面，股价可能大幅偏离目标价： ：EUV技术开发遇到挑战，可能导致产品交付延迟和利润率下降。 ：在光刻和/或工艺控制市场份额的得失，将对业绩预测构成上行/下行风险。 ：ASML收入高度依赖少数大客户（如台积电、英特尔、三星），这些客户的资本支出增减将直接影响ASML的业绩。 ：宏观经济疲软或地缘政治紧张局势升级，可能导致半导体行业增长放缓或节奏被打乱，从而影响需求。
总体总结
主题正文
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- 报告核心观点认为，尽管台积电高管再次公开质疑ASML新一代High NA EUV光刻机的价格和必要性，但这不会对ASML的财务预期产生实质性影响。
- 花旗预计High NA工具的大规模出货将从2028年开始，在此之前（2026/27年）出货量将保持低位（5-6台），主要用于研发。
- ：台积电业务发展副总裁Kevin Zhang在2026年技术研讨会上再次公开表示，至少在2029年之前的A14/13/12制程节点中“无需使用High NA”，其研发团队已能在不使用High NA的情况下实现技术演进。
- ：报告明确指出，High NA技术本身是有效的，目前累计曝光晶圆已超过50万片，过去一年增长超10倍。
- ：估值基于对ASML长期增长的信心，预计到2030年每股收益（EPS）的年复合增长率（CAGR）可达“十几到二十”（high-teen）。
- 分析师认为，将估值展望延长至2026年以后，能更好地捕捉ASML在人工智能、半导体资本支出等结构性增长领域的长期潜力。
- ：EUV技术开发遇到挑战，可能导致产品交付延迟和利润率下降。
- ：宏观经济疲软或地缘政治紧张局势升级，可能导致半导体行业增长放缓或节奏被打乱，从而影响需求。