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# 机构小秘圈 茂莱光学调研更新： 1、茂莱光学公司定位与业务结构（工业光学平台、定制化小批量多品种） 业务链条延伸：公司自 1990 年代末、2000 年前后成立

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## 正文

机构小秘圈
茂莱光学调研更新：
1、茂莱光学公司定位与业务结构（工业光学平台、定制化小批量多品种）
业务链条延伸：公司自 1990 年代末、2000 年前后成立，绝大部分业务集中在器件；2014 年成立仪器公司后，业务从最基础的光学玻璃器件一路延伸到整机模组的前一道，形成“元器件—组件/模组—系统级（整机前一道）”的全覆盖。
公司定位：是“工业光学”公司，而非半导体公司或生命科学公司。工业光学赋能整个工业领域最尖端的部分，不同时代服务的使命不同——近十年乃至未来 5-10 年，半导体是最尖端的战场，再此之前则是生命科学。光学的生命周期远长于半导体：若量子计算、量子通信成熟应用，基于掺杂的半导体未必存在，但光学还会延续百年以上。
下游结构：2026上半年半导体占公司收入约 60%，为第一大应用领域；第二大为AR/VR 检测；此外还包括生命科学、光通信、航空航天、无人驾驶、量子等。光通信目前占比不高。
展厅在展产品：半导体级别的镜片与组件，包括浸没式用大口径反射镜、供电台测场用四通道棱镜、光刻机照明用积分棒（把光斑均匀化、线化）、十通道匀光组件，以及光通信用碳化硅等材料的微型器件等。其中积分棒在量测中亦会使用，但目前以光刻应用为主。公司成熟量产精度大概是蔡司的1/5，量产测量精度在国内处于头把交椅。
2、核心技术与竞争壁垒
镜片加工难度：1）材料难以加工，浸没式300-400mm直径镜片的表面起伏1-2nm，EUV再小一个数量级；2）非平板，球面或非球面，非球面比球面加工难度更高，在此基础上镀膜几十层，每一层的精度都得在范围内。其背后难点是测量能力，不在于设备加工不出好面型，而在于“测不出来”，无法判断哪个位置多了或少了几层原子、哪里该多修 0.1nm、哪里该少修 0.1 nm。所有光学公司的本质都是测量公司（类比传统汽车公司的本质是发动机公司）。测量能力决定一家光学公司在行业内的位置。加工设备（抛光、磁流变、离子束、镀膜）都可以外购外协，唯独测量能力必须自建、自检。
测量能力三要素：测量设备、测量环境、测量方法，三者必须同时极致收敛，缺一则其余两项的投入都会事倍功半。公司在这三方面均具备自主能力，研发线与量产线的大型立式干涉仪设备均为自制。
蔡司案例：蔡司对外宣传“60 位金手指老师傅”与离子束抛光，其真实壁垒是干涉仪测量能力。上世纪 90 年代做 DUV 时，为把测量环境收敛到极致，蔡司买下地下百余米的矿洞掏空后建真空腔体，在真空中测量以隔绝温度、湿度与电磁波影响。蔡司对外销售三坐标，但从不卖干涉仪。
3、光刻机业务分工
一台光刻机可类比单反相机，决定成像质量的是镜头而非机身或CMOS；光刻机 是围绕镜头系统建设的一台“打印机”，光源波长（248/193/13.5nm）的选择也是围绕镜头特性确定的。
价值链拆解：曝光物镜典型为 18/20/22/28片镜片，浸没式带回落镜可能超过30片；照明系统镜片约100片，但曝光物镜价值是照明系统的 5-10 倍。曝光物镜占整台光刻机价值约24-25%、不到 30%。一些公司号称能做光刻机实则做的是标准镜或者照明器件。
价值量举例：一台浸没式光刻机（如 NXT:1980Di）售价约 6-7 亿元，其中浸没式镜头（不含浸液/超纯水系统，含最下方接触镜片及其以上镜组）约 1.5 亿元；镜片价值占镜头的一大半，剩下的是组装调试，由镜片组装成镜头的其他物料占比很低，主要体现为附加值与毛利，约 40%-50%。
产业链分工：光学公司的核心是测量，光刻机公司的核心是镜头（设计、组装调试与反馈，涉及微动、热反馈、油路/气路/真空腔及中心仪装配）。历史上 ASML 绑定蔡司乃至成立合资公司（Carl Zeiss SMT），宇量昇从上海微分出后没有镜头能力因而收购国望（镜片长光所做），均说明镜头是光刻机公司的命门。
公司的角色：不做最尖端的镜头组装，避免与下游客户抢生意；但当客户镜头方案成熟、需要量产降本时（如 I 线镜头），公司会深度介入光刻机物镜领域。目前光刻机物镜主要以“成套镜片组”形式交付（一套镜片组对应一个或0.5个镜头）。
4、光刻机业务进展
国产进度：目前纯国产光刻机商业化量产只到前道 I 线，前道I线以上还没有国产；前两年攻克的国产光刻机指的是I线后道，用于后道先进封装；今年最新I线前道到135nm，受限的就是曝光镜头。
上海微体系拆分：上海微去年拆分为两个主体——本体S2（主做 248、193干式，图纸阶段）与芯上微装S3（主做成熟制程I 线前道和后道）
S3（芯上微装）：公司供应 I 线全部曝光物镜与镜片组合、I线的镜头与照明，已量产，基本为独家；
S2（上海微本体）：供应10套K线照明和供电台产品，KrF 曝光物镜正在研发与方案确定中；
S1（宇量昇）：供应照明和标准镜，曝光物镜尚未供入（该部分由国望——长春光机所体系、已被宇量昇收购——在做，公司正在争取份额，国望也是我们客户）；
定性看，三家光刻机目前只有 S3 有量产产品，S2接近量产，S1尚未量产。公司在S2、S3份额都是独家。S3是是我们光刻机领域第一大客户。S1和ASML也会给我们更高精度的光学器件，正在研发。
产业化逻辑：国产光刻机必须从 I 线开始产业化起步——产业链无法一步到位，必须由 I 线开始才能支撑继续向 KrF 干式光刻机（248nm）、ArF 干式光刻机（193nm 干式）、ArF浸没式 DUV 光刻机（193nm ArFi）爬坡，这是硬性逻辑；因此即便I 线能买到，出于产业链主体与整体能力提升，仍必须做。市场消息称 28nm 浸没式今年出 5 台、明年出 20 台。KrF距规模量产大致一年左右，ArFi 三年攻克，与公司DUV扩产项目节奏相近。
需求空间：公司100亿产值基本上是服务于半导体行业，量检测是稳步增长，但光刻机不是，21-22年ASML被制裁不能输入EUV，但浸没式和普通DUV都能卖给中国，每年ASML DUV新货销售46%是卖给中国的，ASML光是给大陆供的DUV就每年100多台，还不包括尼康，几年前国内DUV需求就100-200台。若国产浸没式突破且价格松动，国内的DUV年需求至少在200台以上。
海外路径：康宁每年5kw，以 193/248 相关为主，其下游客户较多，也包括ASML。
5、经营情况
上半年订单交付出现积压，在手订单12-13亿目前，今年目标产值做到13亿，今年确认营收不会低于10亿。
原材料：玻璃类（如成都光明）、晶体类（氟化钙等）国内供应商进步明显，公司已在采购；但整体仍不及康宁、肖特、小原（OHARA），部分指定材料只能进口。半导体级玻璃与晶体属全球“粮食”，买完即无，公司通过海外渠道囤货，也因此产生部分库存与减值安排。
下半年明显提速：1）光刻机：上海微（S2+S3）去年收入约4-5kw，今年上半年上海微仅一家没交付订单就8-9kw，且还没拿完；2）量检测（海外）：今年新进入ONTO（全球前三量检测设备），其G5机型在台积电后道PK中击败KLA（科磊）；G4+G5今年对ONTO预计交付2-3亿元；3）量检测（国内）：中科飞测（"中国的KLA"）明年其自身交付指引40-50亿元、在手订单达100亿元，公司目标明年其业务做到10亿元级别。合作自去年6-7月开始转移、今年全面转向，公司定位由元器件供应商升级为模组供应商，BOM占比20%-60%（模组可达50%以上，简单器件约20%），产品以暗场检测为主、部分明场。中科飞测今年上半年已进入公司前五大客户，明年有望跃升为第一大客户。
注：KLA自2017-2018年起对公司的采购规模已明显收缩，目前仅保留SP7等高端成像模组品类。公司仍是KLA在中国地区唯一保留的国内供应商，但合作仅维持在供应商目录资格及最尖端模组的供应层面。该合作受中美关系影响较大，且双方合作更多集中于前道环节。
光通讯
今年做到1-2亿；
产能布局：公司已在泰国搭建整套研发、测量与测试架构（自评估在国内具备较高水平），并在多国设厂，主要为满足美国本土供应要求（美国湾区楼宇间链路已在用公司产品）；
三大方向：①激光通信类整机（Taara 类）；②航空航天激光通信（捕获、对准，为公司强项）；③微结构/光纤通信相关光学系统；
谷歌Taara项目：Google X 的自由空间光通信（FSO）项目，公司为一代产品供货，二代在研（二代拟用光芯片降本，后段管镜将改用光芯片方案）。该项目目前年收入几千万元、不到 1 亿元，单台约 10-20 万美金，通常一站配两台（一用一备），前期研发投入约几千万元；目前用于地面组网，未来用于配合星链的空地一体通信；国内某院所以及海外客户也在采用 FSO 方式做激光通信终端。---xz

## 总体总结

主题正文
1. 上世纪 90 年代做 DUV 时，为把测量环境收敛到极致，蔡司买下地下百余米的矿洞掏空后建真空腔体，在真空中测量以隔绝温度、湿度与电磁波影响。
2. 价值量举例：一台浸没式光刻机（如 NXT:1980Di）售价约 6-7 亿元，其中浸没式镜头（不含浸液/超纯水系统，含最下方接触镜片及其以上镜组）约 1.5 亿元；
3. 产业链分工：光学公司的核心是测量，光刻机公司的核心是镜头（设计、组装调试与反馈，涉及微动、热反馈、油路/气路/真空腔及中心仪装配）。
4. 产业化逻辑：国产光刻机必须从 I 线开始产业化起步——产业链无法一步到位，必须由 I 线开始才能支撑继续向 KrF 干式光刻机（248nm）、ArF 干式光刻机（193nm 干式）、ArF浸没式 DUV 光刻机（193nm ArFi）爬坡，这是硬性逻辑；
5. 需求空间：公司100亿产值基本上是服务于半导体行业，量检测是稳步增长，但光刻机不是，21-22年ASML被制裁不能输入EUV，但浸没式和普通DUV都能卖给中国，每年ASML DUV新货销售46%是卖给中国的，ASML光是给大陆供的DUV就每年100多台，还不包括尼康，几年前国内DUV需求就100-200台。
6. 下半年明显提速：1）光刻机：上海微（S2+S3）去年收入约4-5kw，今年上半年上海微仅一家没交付订单就8-9kw，且还没拿完；
7. 3）量检测（国内）：中科飞测（"中国的KLA"）明年其自身交付指引40-50亿元、在手订单达100亿元，公司目标明年其业务做到10亿元级别。
8. 合作自去年6-7月开始转移、今年全面转向，公司定位由元器件供应商升级为模组供应商，BOM占比20%-60%（模组可达50%以上，简单器件约20%），产品以暗场检测为主、部分明场。