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title: "🍁🍁🍁三孚新科更新：掌握设备核心技术，HVLP4进展顺利 🍁公司通过自研设备快速推进HVLP4产品开发，外购普通标箔后通过自有设备表面处理后RZ值小于0.5符合"
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# 🍁🍁🍁三孚新科更新：掌握设备核心技术，HVLP4进展顺利 🍁公司通过自研设备快速推进HVLP4产品开发，外购普通标箔后通过自有设备表面处理后RZ值小于0.5符合

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## 正文

🍁🍁🍁三孚新科更新：掌握设备核心技术，HVLP4进展顺利

🍁公司通过自研设备快速推进HVLP4产品开发，外购普通标箔后通过自有设备表面处理后RZ值小于0.5符合客户需求。相较于同行的生箔工艺效率以及性能更优，目前公司在头部CCL客户送样顺利，有望Q3完成全部验证，后续拓展台系等其他客户。

🍁公司新产能无需生箔机，一旦下游放量公司建线速度远快于同行，HVLP4预计26年底形成3条线2000吨产能，27年目标接单30条线，远期目标规划100条线。

🍁后处理药水配方是行业核心壁垒，公司自供药水+设备有较好协同效应，后续HVLP4代铜箔随rubin系列放量公司有较大潜力。

## 总体总结

主题正文
1. 🍁🍁🍁三孚新科更新：掌握设备核心技术，HVLP4进展顺利
2. 🍁公司通过自研设备快速推进HVLP4产品开发，外购普通标箔后通过自有设备表面处理后RZ值小于0.5符合客户需求。
3. 相较于同行的生箔工艺效率以及性能更优，目前公司在头部CCL客户送样顺利，有望Q3完成全部验证，后续拓展台系等其他客户。
4. 🍁公司新产能无需生箔机，一旦下游放量公司建线速度远快于同行，HVLP4预计26年底形成3条线2000吨产能，27年目标接单30条线，远期目标规划100条线。
5. 🍁后处理药水配方是行业核心壁垒，公司自供药水+设备有较好协同效应，后续HVLP4代铜箔随rubin系列放量公司有较大潜力。