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# 菲沃泰跟踪更新：国产纳米薄膜龙头，浸没式光刻机的核心耗材供应商 光刻机作为半导体制造的核心，占晶圆厂整体设备资本开支超20%。在美国出口管制升级与海外设备大幅涨

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## 正文

菲沃泰跟踪更新：国产纳米薄膜龙头，浸没式光刻机的核心耗材供应商
光刻机作为半导体制造的核心，占晶圆厂整体设备资本开支超20%。在美国出口管制升级与海外设备大幅涨价的双重夹击下，国内光刻机产线的设备国产化已从备用验证转变为战略必选项。当前，国产DUV光刻机在光源、双工件台、物镜系统等核心环节屡有技术突破，预计26年有5-12台出货。近期光刻行业重要变化为量产机交付。
菲沃泰卡位DUV光刻机核心耗材，将充分享受国产设备出货量由个位数向百台级攀升的产业红利。独家攻克DUV光刻机核心膜层。公司打破海外垄断，成为目前国内浸润式DUV 相关镀膜的唯一供应商。公司独家掌握有机无机杂化配方技术，解决了超疏水与耐紫外无法共存的行业难题，可制备100纳米半导体级平整度的膜层，该技术国内暂无其他厂商能够实现，高壁垒也带来超高利润率。
菲沃泰该业务2026年2月起正式量产供货，截至目前有2000多万订单，这样看年化至少可以看到5000万+。参考ASML浸没式DUV光刻机每年出货近150台，累计2000台，而国内目前处于萌芽期，需求不到10台，并且该膜层为耗材，每3-4个月需要更换一次，单台价值量数千万，公司凭借自主研发HFCVD设备，得到客户高度认可，成为该品类耗材独家供应商。粗算该业务成长空间可能还有数十倍到近百倍。调研链接公司近期新增定制设备，应对上海客户量产加单需求；预计公司CVD/HFCVD单台定制设备对应一台光刻设备疏水膜/金刚石超硬膜需求，扩产加速。光刻机板块稀缺“耗材”标的。

## 总体总结

主题正文
1. 菲沃泰跟踪更新：国产纳米薄膜龙头，浸没式光刻机的核心耗材供应商
2. 光刻机作为半导体制造的核心，占晶圆厂整体设备资本开支超20%。
3. 当前，国产DUV光刻机在光源、双工件台、物镜系统等核心环节屡有技术突破，预计26年有5-12台出货。
4. 菲沃泰卡位DUV光刻机核心耗材，将充分享受国产设备出货量由个位数向百台级攀升的产业红利。
5. 公司独家掌握有机无机杂化配方技术，解决了超疏水与耐紫外无法共存的行业难题，可制备100纳米半导体级平整度的膜层，该技术国内暂无其他厂商能够实现，高壁垒也带来超高利润率。
6. 菲沃泰该业务2026年2月起正式量产供货，截至目前有2000多万订单，这样看年化至少可以看到5000万+。
7. 参考ASML浸没式DUV光刻机每年出货近150台，累计2000台，而国内目前处于萌芽期，需求不到10台，并且该膜层为耗材，每3-4个月需要更换一次，单台价值量数千万，公司凭借自主研发HFCVD设备，得到客户高度认可，成为该品类耗材独家供应商。
8. 预计公司CVD/HFCVD单台定制设备对应一台光刻设备疏水膜/金刚石超硬膜需求，扩产加速。