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topic_id: 55522441128825854
created_at: 2026-07-28T11:29:23.581+0800
source: zsxq
type: topic
cssclasses: zsxq-vault
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# 【光刻机解决国产化瓶颈01问题，订单弹性1到N看整体设备供应链】 [玫瑰]光刻机产业链：上万个零部件，上千家供应商，协作打造高端设备。ASML一台光刻机包含了1

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## 正文

【光刻机解决国产化瓶颈01问题，订单弹性1到N看整体设备供应链】

[玫瑰]光刻机产业链：上万个零部件，上千家供应商，协作打造高端设备。ASML一台光刻机包含了10万个零部件，主要部件包含测量台与曝光台、激光器、光束矫正器、能量控制器等11个模块。除国内积极推进光刻机整机集成外，还包括光源、物镜与照明系统、双工件台、浸没系统等关键组成部分，与涂胶显影及量测检测的配套设备均在快速成长。
👉从光刻工艺相关的设备及零部件厂商角度，关注芯源微、茂莱光学、奥普光电、福晶科技、波长光电、永新光学、炬光科技、腾景科技、富创精密、苏大维格、旭光电子、汇成真空等。

[玫瑰]对于中国半导体产业来说，光刻机是解决天花板在哪的问题，而刻蚀、薄膜沉积、量测等设备则是“填砖加瓦”的主力军。光刻机国产化取得突破，从“有”到“好用”需要一个持续提升的过程（ASML从2008年发布1950i到2015年发布1980Di用了7年时间），晶圆厂下发的大批量设备订单依然会集中在刻蚀、薄膜沉积等配套设备上。多重曝光技术和3D结构转型等技术演进也对于刻蚀、薄膜沉积、量检测等设备需求带来乘数效应，光刻机天花板的上限提高则进一步利好设备供应链。
👉头部设备企业订单确定性角度，建议关注北方华创、中微公司；从国产化空间角度，关注中科飞测、芯源微；超跌反弹角度，关注京仪装备、金海通、恒运昌；出海角度关注屹唐股份。

## 总体总结

主题正文
1. 【光刻机解决国产化瓶颈01问题，订单弹性1到N看整体设备供应链】
2. ASML一台光刻机包含了10万个零部件，主要部件包含测量台与曝光台、激光器、光束矫正器、能量控制器等11个模块。
3. 除国内积极推进光刻机整机集成外，还包括光源、物镜与照明系统、双工件台、浸没系统等关键组成部分，与涂胶显影及量测检测的配套设备均在快速成长。
4. 👉从光刻工艺相关的设备及零部件厂商角度，关注芯源微、茂莱光学、奥普光电、福晶科技、波长光电、永新光学、炬光科技、腾景科技、富创精密、苏大维格、旭光电子、汇成真空等。
5. [玫瑰]对于中国半导体产业来说，光刻机是解决天花板在哪的问题，而刻蚀、薄膜沉积、量测等设备则是“填砖加瓦”的主力军。
6. 光刻机国产化取得突破，从“有”到“好用”需要一个持续提升的过程（ASML从2008年发布1950i到2015年发布1980Di用了7年时间），晶圆厂下发的大批量设备订单依然会集中在刻蚀、薄膜沉积等配套设备上。
7. 多重曝光技术和3D结构转型等技术演进也对于刻蚀、薄膜沉积、量检测等设备需求带来乘数效应，光刻机天花板的上限提高则进一步利好设备供应链。
8. 👉头部设备企业订单确定性角度，建议关注北方华创、中微公司；
