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title: "[红包]【天风新材料 一论玻璃基封装载板】如何看待玻璃基封装载板的前景和壁垒？—20260421 [太阳]封装载板是封装测试环节中的关键载体，每一轮封装载板的发"
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# [红包]【天风新材料 一论玻璃基封装载板】如何看待玻璃基封装载板的前景和壁垒？—20260421 [太阳]封装载板是封装测试环节中的关键载体，每一轮封装载板的发

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## 正文

[红包]【天风新材料 一论玻璃基封装载板】如何看待玻璃基封装载板的前景和壁垒？—20260421

[太阳]封装载板是封装测试环节中的关键载体，每一轮封装载板的发展，都对芯片性能的提升起到了重要作用。当前，伴随摩尔定律放缓，先进封装成为进一步推动半导体发展的重要路径之一。其中，除了封装方式进步外，寻找更加优越的先进材料也是重要方向。作为年度策略重点推荐的领域，本文系第一篇报告，将重点分析玻璃基封装载板优势和工艺。

#玻璃基封装载板为何可作为下一代载板？为适应封装发展需求，IC载板经历了金属基板、陶瓷基板、有机基板等多次演进，基本按照15年为一个更换周期。据英特尔估计，使用有机材料在硅基封装上缩放晶体管，很有可能在未来几年撞到技术的极限，寻求下一代封装基板成了必然选择。与主流有机基板相比，玻璃在平坦度、热稳定性和机械稳定性当面都有更好的表现。在2.5D/3D封装领域，相对TSV，玻璃材料没有自由移动的电荷，介电性能优良，CTE与硅接近，以玻璃替代硅材料的TGV技术可避免TSV所产生的问题。同时，TGV技术无需制作绝缘层，降低了工艺复杂度和加工成本。

#玻璃基封装载板的技术壁垒体现在何处？玻璃载板壁垒主要体现在成孔、沉铜、重布线层等。1）成形高品质通孔：玻璃通孔的成形工艺需要满足低成本、高精度、小尺寸、细间距、侧壁光滑、垂直度好等要求。当前，激光诱导刻蚀法具有低成本、一致性好等优势，应用前景较好，成为TGV厂商主要探索方向；2）高质量填充通孔：高质量填充通孔需解决：①成本和效率：与TSV不同，TGV的孔径相对较大，且多为通孔，这会导致电镀的时间和成本将增加；②玻璃与常用金属的黏附性：玻璃表面平滑，容易造成玻璃衬底与金属层间的分层，引致金属层卷曲，甚至脱落等；3）重布线层技术：玻璃基板上RDL难点在于：①玻璃表面光滑，对金属铜粘附力较弱，容易产生金属层卷曲、脱落等；②为适应更高的互联密度等，需要更窄线宽线距等。

## 总体总结

主题正文
1. 作为年度策略重点推荐的领域，本文系第一篇报告，将重点分析玻璃基封装载板优势和工艺。
2. 为适应封装发展需求，IC载板经历了金属基板、陶瓷基板、有机基板等多次演进，基本按照15年为一个更换周期。
3. 据英特尔估计，使用有机材料在硅基封装上缩放晶体管，很有可能在未来几年撞到技术的极限，寻求下一代封装基板成了必然选择。
4. 在2.5D/3D封装领域，相对TSV，玻璃材料没有自由移动的电荷，介电性能优良，CTE与硅接近，以玻璃替代硅材料的TGV技术可避免TSV所产生的问题。
5. 1）成形高品质通孔：玻璃通孔的成形工艺需要满足低成本、高精度、小尺寸、细间距、侧壁光滑、垂直度好等要求。
6. 2）高质量填充通孔：高质量填充通孔需解决：①成本和效率：与TSV不同，TGV的孔径相对较大，且多为通孔，这会导致电镀的时间和成本将增加；
7. ②玻璃与常用金属的黏附性：玻璃表面平滑，容易造成玻璃衬底与金属层间的分层，引致金属层卷曲，甚至脱落等；
8. 3）重布线层技术：玻璃基板上RDL难点在于：①玻璃表面光滑，对金属铜粘附力较弱，容易产生金属层卷曲、脱落等；