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title: "洪田古份-玻璃基板光刻机率先卡位0421 —————————————————— 1、产业拐点确立：玻璃基板凭借高平整度、低介电损耗等优势，#成为AI算力时代先进"
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# 洪田古份-玻璃基板光刻机率先卡位0421 —————————————————— 1、产业拐点确立：玻璃基板凭借高平整度、低介电损耗等优势，#成为AI算力时代先进

- 序号：557
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## 正文

洪田古份-玻璃基板光刻机率先卡位0421　
——————————————————　
1、产业拐点确立：玻璃基板凭借高平整度、低介电损耗等优势，#成为AI算力时代先进封装核心载体。苹果、英特尔等巨头加速布局，2026年有望成为小批量商业化出货元年。　
　
2、设备先行优势：设备是产线扩张的“卖铲人”，TGV激光设备直接决定良率。#洪田古份控古子公司洪镭光学自研的TGV玻璃基板直写光刻机已率先完成订单交付，先发优势显著。　
　
3、国产替代加速：#公司产品线覆盖解析度从20μm至0.5μm的微纳直写光刻设备，涵盖PCB、IC封装基板、先进封装等应用领域，国产设备替代空间打开　
　
重点关注，欢迎交流~

## 总体总结

主题正文
1. 洪田古份-玻璃基板光刻机率先卡位0421
2. ——————————————————
3. 1、产业拐点确立：玻璃基板凭借高平整度、低介电损耗等优势，#成为AI算力时代先进封装核心载体。
4. 苹果、英特尔等巨头加速布局，2026年有望成为小批量商业化出货元年。
5. 2、设备先行优势：设备是产线扩张的“卖铲人”，TGV激光设备直接决定良率。
6. #洪田古份控古子公司洪镭光学自研的TGV玻璃基板直写光刻机已率先完成订单交付，先发优势显著。
7. 3、国产替代加速：#公司产品线覆盖解析度从20μm至0.5μm的微纳直写光刻设备，涵盖PCB、IC封装基板、先进封装等应用领域，国产设备替代空间打开
8. 重点关注，欢迎交流~